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亿光控告日亚化侵害覆晶专利技术

导读: 针对日亚化1月28日于其网站发布新闻稿关于中国诉讼乙事,亿光表示尊重对于法院判决,然而诉讼程序仍在进行中,并非最终判决,仍可上诉,亿光相信最终将得到有利的判决。

2017年9月28日,亿光电子工业股份有限公司之中国子公司 (以下统称“亿光”) 向中国深圳中级人民法院提出专利侵权诉讼,控告深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵害亿光覆晶(flip-chip)专利技术,并要求法院针对侵权产品下达禁制令以及损害赔偿。中国专利复审委员会已确认该专利有效,驳回日亚化的专利无效请求。

针对日亚化1月28日于其网站发布新闻稿关于中国诉讼乙事,亿光表示尊重对于法院判决,然而诉讼程序仍在进行中,并非最终判决,仍可上诉,亿光相信最终将得到有利的判决。亿光重申:日亚化中国YAG专利ZL97196762.8已于2017年7月29日期满失效,对本公司现有产品毫无影响。

美国最高法院 (Supreme Court of the United States)于2018年10月1日认定日亚化美国YAG专利US 5,998,925与US 7,531,960所主张之权利项全部无效。台湾智财法院于2018年4月12日确认日亚化台湾YAG专利TW383508无效。上述案件胜诉事实不变。

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